一、设备概述

扫描电子显微镜(SEM)可以利用二次电子信号成像进行样品表面形貌；同时利用能谱(EDS)接受电子束和物质相互作用产生的特征X 射线进行成分分析。SEM 广泛应用于材料、冶金、机械、微电子、矿物、生物等领域。

二、主要性能指标

(1)二次电子分辨率：≤1.2nm @ 15kV（SE）；≤2.2nm @1kV（SE）；

(2)能谱仪：Bruker Quantax Xflash 60 SDD 能谱仪系统，60mm2 探头面积；

(3)电子枪：热场发射电子源；

(4)加速电压：0.02kV-30kV，连续可调；

(5)放大倍率：20-100000 倍，连续可调；

(6) X 射线能谱仪的元素分析范围为：Be4-Am95。

三、主要配置及特点

(1)配置 Gemini 无漏磁复合物镜系统，可以近距离（WD≤4mm）高分辨观察磁性材料；

(2)低电压技术可用来观察不导电样品；

(3)配置双通道成像功能，例如可同时开启二次电子探测器的形貌图像和背散射电子探测器的成分衬度像；

(4)配置五轴马达驱动样品台，其中X 方向≥120mm，Y 方向≥120mm，Z 方向≥40mm，T 倾斜≥70℃，R 旋转=360°。