一、设备概述

全自动反应离子刻蚀机(RIE-501)通过物理与化学相结合的方法，对很细的线条（亚微米以下）进行刻蚀以形成精细的图形。RIE-501 具有选择比较好、刻蚀速度较快、重复性好、性价比较高等特点。本产品通过软、硬件相互配合的互锁、智能监控、在线状态记忆、断点保护等设计，结合各种硬保护装置、使设备的安全性、可靠性得到有效保证。
二、技术指标

真空系统：分子泵机组

刻蚀室数量：单室

刻蚀室规格：ø300 ×100mm 电极尺寸：ø200mm

刻蚀材料：Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs 等

刻蚀速率：0.1–1μ/min （与刻蚀材料和工艺有关）

刻蚀不均性：≤±5%

自动化程度：真空系统、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量、工艺过程全自动控制

人机界面：Windows 环境、触摸屏操作

操作方式：全自动方式、非全自动方式