一、设备概述

曝光机(BGJ-4)主要用于对光刻胶掩膜进行曝光以形成光刻胶图形，采用的是接触式紫外曝光，其采用单面对准方式。

二、技术指标：

曝光样片面积：Ø75mm ~ ø100mm（4英寸兼3英寸）

曝光功率：200W

分辨率：1μm

对准精度：1μm

显微镜放大倍数：375倍